中心論題：
- 輻射機理
- 實例分析
- 結(jié)果討論
解決方案：
- 考慮屏蔽體的機械強度、彎曲易加工性、彈性零件的尺寸穩(wěn)定性以及接觸電阻等因素
- 綜合考慮屏蔽體的外形尺寸、所受磁場方向、漏磁、接地點等問題
引言
在有限的空間和有限的頻率資源條件下，如何避免電磁之間的相互干擾也就是電磁兼容性問題。所謂“電磁兼容性”在國家EMI標(biāo)準(zhǔn)中作了如下定義：“設(shè)備(分系統(tǒng)、系統(tǒng))在共同的電磁環(huán)境中能一起執(zhí)行各自功能的共存狀態(tài)。即：該設(shè)備不會由于受到同一電磁環(huán)境中其他設(shè)備的電磁發(fā)射導(dǎo)致或遭受不允許的降級”。電磁兼容性就是使處于同一電磁場環(huán)境下的各種電子電氣設(shè)備或系統(tǒng)能夠正常工作而互不干擾。
輻射機理
電磁場干擾是由于感應(yīng)源和受感器件周圍的交變電場和磁場同時存在產(chǎn)生的輻射電磁場，其特點是電場分量和磁場分量同時出現(xiàn)且相互垂直。輻射的電磁場之特性是由輻射源的特性來決定的。源的周圍介質(zhì)以及源與觀察點之間的距離等都能影響電磁場的特性。在源附近的場，其特性主要決定于源的特性：當(dāng)遠離源的地方，場的性質(zhì)主要決定于場傳播時所通過的介質(zhì)。因此，在電磁場輻射源的周圍，可分成近場和遠場兩個范圍，輻射源附近稱近場，距離大于λ/2π的地方稱遠場(λ為波長)。在近場中，噪聲一般是通過電容性耦合或電感性耦合方式傳播到電路中。電場E對磁場H的比值常稱為波阻抗(E/H)。在近場時它決定于源的特性和從源到觀察點的距離，如源為大電流低電壓的情況，則近場主要為磁場，以電感性耦合的噪聲為主；若源為小電流高電壓，則近場主要為電場，以電容性耦合的噪聲為主。當(dāng)頻率低于1MHz時，電子線路內(nèi)的噪聲耦合大多是由近場所造成的。因為，根據(jù)λ/2π計算的近場范圍很大，在30KHz時，近場范圍可達1.6KM；在遠場時，電磁波的波阻抗Z為電場強度E對磁場強度H之比，即：
其中E表示電場，H表示磁場。
如將發(fā)生源與觀察點之間距離定為r；RX=λ/2π,則在近場中，當(dāng)發(fā)生源主要為電場時：
其波阻抗呈高阻抗特性；而當(dāng)發(fā)生源主要為磁場時：
其波阻抗仍呈高阻抗特性(符號含義同上)，如圖1所示。
當(dāng)觀察點距源大于λ/2π的遠場中，介質(zhì)為自由空間時，波阻抗E/H是一個常數(shù)120π，近似等于377Ω，所以在討論遠場時，可以把它看成一個具有阻抗為377Ω的平面波，近場中屬于電容性耦合和電感性耦合噪聲范圍。在遠場中，電場和磁場的方向互相垂直，但相位相同，所以它與近場不同，而向四方輻射能量，它對電子電路的干擾是通過能量的輻射方式進行的。輻射的電磁場在空間的傳播是由于電場和磁場的相互作用。當(dāng)空間有靜電荷Q時，則產(chǎn)生靜電場，電荷移動時則形成電流，因電磁作用又同時產(chǎn)生電場和磁場。
幅射源引起了周圍的磁場和電場相應(yīng)地改變，這種變化在空間中的傳播就是電磁波，其傳播速度與光速相等，這方面的論述和研究較少。無線電廣播、通訊設(shè)備和其它高頻設(shè)備工作時，有很大功率的電磁波輻射，在此環(huán)境內(nèi)的電器設(shè)備上會產(chǎn)生正比于電場強度的感應(yīng)電動勢U：U=heff
其中heff為比例長數(shù)或天線的有效高度。
較長的導(dǎo)線，信號輸入線、輸出線、控制線、電源線等在電磁場中都能接收電磁波而感應(yīng)出噪聲電壓。作為噪聲源，這些導(dǎo)線又能輻射出電磁波造成二次噪聲污染。在大功率廣播設(shè)備附近的強電場中，電子設(shè)備的外殼或內(nèi)部的導(dǎo)線、導(dǎo)體都會感應(yīng)出很強的感應(yīng)電動勢，導(dǎo)致對電路的干擾。抑制輻射最主要的方法是采用屏蔽，即對兩個空間區(qū)域之間加以金屬隔離，電容性耦合可將金屬接地進行靜電屏蔽，對于電感性耦合，則采用一般的電磁屏蔽。而對于遠場中的電磁波也同樣可以用金屬體進行隔離，以阻止這種噪聲的傳播。
屏蔽的效果與頻率、屏蔽體的幾何形狀、材料性質(zhì)等因素有關(guān)，在分析這些因素并在實際應(yīng)用屏蔽措施時，金屬屏蔽體對輻射波的衰減作用的機理研究尤為重要。金屬板屏蔽體對電磁波的衰減可由圖2來說明,當(dāng)電磁波Ei入射到金屬板上時，一部分由AB表面AB反射，另一部分進入金屬體內(nèi)，而在途中被不斷衰減后達CD面，這時其中又有一部分經(jīng)E1透過CD面從金屬板內(nèi)穿出，另一部分則由CD面反射，仍在金屬板內(nèi)部傳播，同樣有一部分穿過AB面穿出，一部分仍在AB面反射。這樣在金屬板內(nèi)多次反射和傳播，則透過金屬屏蔽的電磁波總和E-En=Et。
金屬屏蔽板的屏蔽效果是用透過金屬板后的波Et和入射波E1強度之比表示(Et/E1)。無限大的屏蔽平板對于平面波入射時的屏蔽效果可用S表示:
其中：A為厚度為t的屏蔽板內(nèi)電磁波傳輸中的損耗；B為反射損耗系數(shù)；R為入射損耗系數(shù)；S的單位為dB。
實例分析
一般常用材料的在不同頻率下的屏蔽效果如表1所示。從表1可以看出較薄的金屬箔也有100dB以上的屏蔽效果。
吸收損耗A大于10dB，修正系數(shù)B可忽略不計。一般在遠場中B也可忽略不計。因為這時的反射損耗很高，B與它相比非常小。對于遠場中的反射損耗R，隨屏蔽阻抗降低而增大。所以應(yīng)設(shè)法減少屏蔽阻抗，這可用高導(dǎo)電率和低導(dǎo)磁率的材料。對于吸收損耗A，由于電磁輻射通過介質(zhì)時，感應(yīng)的電流產(chǎn)生電阻熱量損耗，其幅度以指數(shù)方式衰減，當(dāng)它衰減到入射時的1/e或37%，此點離入射點的距離定義為集膚深度δ，銅、鋁、鋼列于表2。圖3是遠場內(nèi)厚度為0.508mm的銅材料的屏蔽效果圖。
結(jié)果討論
a.集膚深度隨頻率增高而減小，電磁波衰減到原來的37%時集膚深度就已很小。
b.銅屏蔽殼體在頻率為0.5MHz時，其衰減到1／100的透入深度只在距表面約0.4mm處，而鋁則在約0.6mm處，鋼在約l.0mm處。
c.在高頻范圍內(nèi)，采用厚度0.5~1.5mm的金屬材料作屏蔽效果較為理想。
d.使用鐵磁性作屏蔽體適用于100KHz以下。
e.屏蔽效果由反射損耗R決定。
吸收損耗與屏蔽介質(zhì)厚度成正比，與集膚深度成反比。從頻率角度看，吸收損耗隨頻度增加而增加，這是由于集膚深度隨頻率增加而減小造成的。反射損耗從圖3可以看出將隨頻率增加而降低，而吸收損耗隨頻率的增加而增加，最小的屏蔽效果出現(xiàn)在中頻頻率。對于低頻平面波的大量衰減是由于反射損耗，而高頻時大量損耗是由于吸收損耗。
屏蔽高頻電磁場輻射，其屏蔽體材料和厚度的選擇，可從取得較好的屏蔽性能出發(fā)，往往優(yōu)先考慮屏蔽體的機械強度、彎曲易加工性、彈性零件的尺寸穩(wěn)定性以及接觸電阻等因素來滿足需要，同時還要綜合考慮屏蔽體的外形尺寸、所受磁場方向、漏磁、接地點等問題。
